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成都市高新西區(qū)-高精度掩膜版制造研發(fā)中心建設(shè)項(xiàng)目可行性研究報(bào)告
思瀚產(chǎn)業(yè)研究院    2024-05-29

1、項(xiàng)目概述

本項(xiàng)目以本公司為實(shí)施主體，項(xiàng)目總投資額為 3,446.95 萬元。公司擬新建研發(fā)中心，用于公司現(xiàn)有實(shí)驗(yàn)條件升級(jí)以及新課題的研發(fā)。本項(xiàng)目實(shí)施完成后將顯著優(yōu)化公司的研發(fā)環(huán)境，為高精度半導(dǎo)體掩膜版與大尺寸平板顯示掩膜版擴(kuò)產(chǎn)項(xiàng)目提供有力支持；

同時(shí)公司將在半導(dǎo)體掩膜版制造技術(shù)研究與開發(fā)、新型顯示用掩膜版制造新技術(shù)研究與開發(fā)、掩膜版制造技術(shù)基礎(chǔ)與前沿研究、高精度掩膜版制造過程仿真模擬研究等多項(xiàng)行業(yè)前沿技術(shù)進(jìn)行前瞻性研究與開發(fā)，進(jìn)一步提高公司的研發(fā)能力和自主創(chuàng)新能力。

2、項(xiàng)目實(shí)施的必要性

（1）本項(xiàng)目的實(shí)施有利于公司在半導(dǎo)體掩膜版領(lǐng)域進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破

在半導(dǎo)體掩膜版領(lǐng)域，國內(nèi)大陸半導(dǎo)體掩膜版生產(chǎn)企業(yè)主要集中少數(shù)企業(yè)和部分科研院所，絕大部分集中在 130nm 及以上制程節(jié)點(diǎn) Stepper Mask，90nm及以下制程節(jié)點(diǎn)掩膜版仍基本依賴進(jìn)口，而目前我國已投產(chǎn)及在建的 90nm 及以下制程節(jié)點(diǎn)的晶圓產(chǎn)線超過 30 條，其掩膜版需求量還有較大缺口。因此，國內(nèi)掩膜版廠商亟需在 90nm 及以下制程節(jié)點(diǎn)的半導(dǎo)體掩膜版領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)技術(shù)突破。

公司一直致力于為我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)提供關(guān)鍵上游原材料的國產(chǎn)化配套，不斷攻克半導(dǎo)體芯片掩膜版的核心技術(shù)。目前公司已實(shí)現(xiàn) 250nm 制程節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體掩膜版量產(chǎn)，滿足先進(jìn)半導(dǎo)體芯片封裝、半導(dǎo)體器件、先進(jìn)指紋模組封裝、高精度藍(lán)寶石襯底（PSS）等產(chǎn)品應(yīng)用。同時(shí)，公司通過自主研發(fā)，已掌握180nm/150nm 節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體掩膜版制造核心技術(shù)并積累了一定的研究成果。

為不斷地提高研發(fā)實(shí)力，加強(qiáng)基礎(chǔ)性研究，實(shí)現(xiàn)公司技術(shù)儲(chǔ)備與積累，公司擬新建研發(fā)中心，本項(xiàng)目在半導(dǎo)體領(lǐng)域研發(fā)課題的主要方向之一，是可應(yīng)用于 130nm/110nm/90nm/65nm 等節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體掩膜版及相移掩膜版的生產(chǎn)制造，可滿足微處理器、電源管理芯片、模擬芯片、功率分立器件、DRAM、Nor-Flash等產(chǎn)品的需求，研發(fā)成果的實(shí)現(xiàn)有利于提升我國掩膜版制造技術(shù)水平，填補(bǔ)國內(nèi)先進(jìn)制程半導(dǎo)體掩膜版領(lǐng)域的市場空白。

綜上，研發(fā)中心的建成有利于公司實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破，符合半導(dǎo)體掩膜版技術(shù)向高精度發(fā)展的主流趨勢，進(jìn)而有助于提升公司的核心競爭力。

（2）本項(xiàng)目的實(shí)施有利于公司在平板顯示掩膜版領(lǐng)域保持技術(shù)領(lǐng)先

在大尺寸平板顯示掩膜版領(lǐng)域，公司擁有國內(nèi)首條 G11 超高世代掩膜版生產(chǎn)線，是目前我國唯一一家擁有顯示領(lǐng)域最完整掩膜版產(chǎn)線的本土企業(yè)，公司的生產(chǎn)產(chǎn)線可全面覆蓋 G2.5-G11 掩膜版，處于國際先進(jìn)水平。公司也是國內(nèi)首家突破高世代高精度半色調(diào)掩膜版制造技術(shù)、光阻涂布技術(shù)行業(yè)前沿技術(shù)的掩膜版企業(yè)。

基于公司在平板顯示掩膜版領(lǐng)域的技術(shù)積累，公司擬進(jìn)一步在不同類型超高精度平板顯示掩膜版的制造展開技術(shù)研發(fā)，包含高精度二元掩膜版（BinaryMask）、半色調(diào)掩膜版，灰階掩膜版、相移（Phase Shift）掩膜版等，可滿足柔性 AMOLED、高精度 Micro-LED、QD-LED 等產(chǎn)品需求。研發(fā)項(xiàng)目旨在滿足新型平板顯示技術(shù)發(fā)展要求，匹配下游平板顯示行業(yè)的技術(shù)發(fā)展趨勢。

綜上，研發(fā)中心的建成有利于保持公司在平板顯示領(lǐng)域掩膜版技術(shù)的領(lǐng)先性，滿足新型平板顯示發(fā)展要求，優(yōu)化產(chǎn)品結(jié)構(gòu)，提高公司的市場占有率，有利于公司的長遠(yuǎn)發(fā)展。

（3）打破國外技術(shù)壟斷，自主研發(fā)勢在必行

掩膜版是半導(dǎo)體及平板顯示制造的關(guān)鍵上游原材料之一，而目前半導(dǎo)體及平板顯示用掩膜版的尖端制造技術(shù)主要由美國福尼克斯、日本 HOYA、SKE 等國外領(lǐng)先企業(yè)掌握，并對相關(guān)關(guān)鍵技術(shù)進(jìn)行了較為嚴(yán)格的封鎖，導(dǎo)致我國高端掩膜版長期依賴進(jìn)口。半導(dǎo)體及平板顯示是電子信息產(chǎn)業(yè)的兩大支柱產(chǎn)業(yè)，中高端掩膜版的自主研發(fā)制造對于提升我國半導(dǎo)體及平板顯示企業(yè)話語權(quán)、降低終端產(chǎn)品成本，完善國內(nèi)半導(dǎo)體及平板顯示產(chǎn)業(yè)鏈有著至關(guān)重要的作用。

公司在產(chǎn)品生產(chǎn)、研發(fā)方面一直致力于自主化的發(fā)展道路，經(jīng)過多年的技術(shù)積累，成功建設(shè)我國首條 G11 掩膜版生產(chǎn)線，打破了我國 G11 高世代掩膜版必須依賴進(jìn)口的局面。此外，公司在高精度半色調(diào)掩膜版領(lǐng)域打破國外技術(shù)壟斷并實(shí)現(xiàn)不同世代產(chǎn)品的量產(chǎn)，已成功通過京東方和中電熊貓等下游客戶的嚴(yán)格認(rèn)證并實(shí)現(xiàn)銷售。

但與國外領(lǐng)先廠商相比，公司起步較晚，在高精度半導(dǎo)體掩膜版的制造、掩膜版上游原材料技術(shù)上還存在一定的差距。本次公司建設(shè)研發(fā)中心，將培養(yǎng)掩膜版行業(yè)專業(yè)技術(shù)人才，并針對行業(yè)前沿技術(shù)進(jìn)行研發(fā)，打破國外技術(shù)壟斷，提升公司的自主研發(fā)能力，推動(dòng)我國掩膜版行業(yè)的技術(shù)變革與健康發(fā)展。

3、項(xiàng)目實(shí)施的可行性

（1）深厚的技術(shù)積累為項(xiàng)目的實(shí)施提供技術(shù)保障

掩膜版領(lǐng)域的研發(fā)與制造具有高技術(shù)、重資產(chǎn)、長周期的特點(diǎn)，具有較高的進(jìn)入門檻。公司自成立之初便一直專注于掩膜版的研發(fā)與制造，經(jīng)過 20 多年的技術(shù)沉淀與探索，已經(jīng)形成了一套完整的涵蓋各生產(chǎn)工藝環(huán)節(jié)與產(chǎn)品制造技術(shù)的核心技術(shù)體系。2020 年 3 月，公司成功通過廣東省科學(xué)技術(shù)廳專家評(píng)審，被認(rèn)定為“廣東省超高精度激光加工掩膜版工程技術(shù)研究中心”。

在重大技術(shù)的突破方面，公司于 2019 年成功實(shí)現(xiàn)國內(nèi)首條 G11 掩膜版投產(chǎn)，這標(biāo)志著我國首次具備 G11 掩膜版的量產(chǎn)能力，對于完善我國平板顯示產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵原材料的國產(chǎn)化配套、逐步實(shí)現(xiàn)進(jìn)口替代具有重要意義。

通過自主研發(fā)與技術(shù)創(chuàng)新，公司于 2018 年成功實(shí)現(xiàn) G2.5 等中小尺寸半色調(diào)掩膜版投產(chǎn)，并于 2019 年先后研發(fā)并投產(chǎn) G8.5、G11 TFT-LCD 半色調(diào)掩膜版，打破國外廠商在半色調(diào)掩膜版領(lǐng)域長期的技術(shù)壟斷，目前公司的半色調(diào)掩膜版已成功通過京東方和中電熊貓等下游客戶的嚴(yán)格認(rèn)證并實(shí)現(xiàn)銷售。

公司十分注重技術(shù)的研發(fā)與轉(zhuǎn)化應(yīng)用，通過對行業(yè)內(nèi)前瞻性和關(guān)鍵性技術(shù)的不斷探索，已經(jīng)掌握了多項(xiàng)核心技術(shù)，取得多項(xiàng)行業(yè)專業(yè)獎(jiǎng)項(xiàng)。公司多次承擔(dān)國家及深圳市政府部門的技術(shù)改造、技術(shù)攻關(guān)等科研項(xiàng)目，其中高世代光掩膜版產(chǎn)線建設(shè)項(xiàng)目獲得國家發(fā)改委、工信部批復(fù)，納入 2017 年電子信息產(chǎn)業(yè)技術(shù)改造專項(xiàng)。

緊隨行業(yè)技術(shù)發(fā)展趨勢，公司不斷更新迭代自身的技術(shù)體系以保持技術(shù)的先進(jìn)性，深厚的技術(shù)積累能夠?yàn)楸卷?xiàng)目的實(shí)施提供了扎實(shí)的技術(shù)保障。

（2）持續(xù)的研發(fā)投入為項(xiàng)目的實(shí)施提供資金保障

公司始終堅(jiān)持技術(shù)創(chuàng)新、產(chǎn)品領(lǐng)先的發(fā)展戰(zhàn)略，多年來持續(xù)加大研發(fā)投入，不斷優(yōu)化研發(fā)條件、引進(jìn)先進(jìn)設(shè)備并培養(yǎng)專業(yè)人才。近年來，公司研發(fā)費(fèi)用的投入不斷提升，2019-2021 年，公司研發(fā)費(fèi)用分別為 1,979.17 萬元、2,835.82 萬元和 2,299.74 萬元，占營業(yè)收入的比例分別為 9.07%、 7.06% 和4.66%。

公司注重研發(fā)成果的轉(zhuǎn)化，研發(fā)的新產(chǎn)品在成功通過客戶的嚴(yán)格驗(yàn)證后，為公司打開了更大的市場空間，顯著拉動(dòng)了公司營收和利潤的快速增長，形成了以技術(shù)創(chuàng)造業(yè)績，以業(yè)績支撐研發(fā)的良性循環(huán)。公司持續(xù)增長的研發(fā)投入體現(xiàn)出公司對研發(fā)能力的高度重視，也為本項(xiàng)目的實(shí)施提供了必要的資金保障。

（3）完善的研發(fā)機(jī)制和優(yōu)秀的研發(fā)團(tuán)隊(duì)為項(xiàng)目的實(shí)施提供堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)

經(jīng)過多年的自主研發(fā)經(jīng)驗(yàn)積累，公司目前已形成一套系統(tǒng)、規(guī)范、科學(xué)的研發(fā)體系。公司對研發(fā)活動(dòng)實(shí)行項(xiàng)目制管理，對不同學(xué)科方向與技術(shù)能力的人員進(jìn)行精細(xì)化的分工與合作。

公司重視培育一支高素質(zhì)的、創(chuàng)新能力過硬且具有團(tuán)隊(duì)精神的研發(fā)人才隊(duì)伍，目前公司的技術(shù)團(tuán)隊(duì)結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，配置合理。公司的研發(fā)團(tuán)隊(duì)擁有優(yōu)秀的高素質(zhì)人才，研發(fā)骨干大都具有較長的研發(fā)工作年限，且擁有專業(yè)的教育背景與技術(shù)能力以及獨(dú)立解決問題的能力。同時(shí)公司重視人才的選拔與培養(yǎng)，定期從國內(nèi)各高校招聘優(yōu)秀畢業(yè)生，充實(shí)人才隊(duì)伍，完善人才梯隊(duì)建設(shè)，為項(xiàng)目實(shí)施提供堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。

4、項(xiàng)目投資概算

本項(xiàng)目總投資 3,446.95 萬元。

5、項(xiàng)目實(shí)施進(jìn)度安排

本項(xiàng)目建設(shè)期為 24 個(gè)月。

6、項(xiàng)目審批、核準(zhǔn)或備案程序履行情況

本項(xiàng)目的實(shí)施主體為路維光電，通過租賃成都路維的廠房實(shí)施。該項(xiàng)目已完成四川省企業(yè)投資項(xiàng)目備案（川投資備[2020-510109-39-03-504825]FGQB-0523 號(hào)），且已取得環(huán)評(píng)批復(fù)（成高環(huán)字〔2021〕8 號(hào)）。

7、項(xiàng)目環(huán)保情況

本項(xiàng)目設(shè)計(jì)充分考慮了環(huán)境保護(hù)因素，本項(xiàng)目所產(chǎn)生的污染主要包括廢氣、廢水、噪音和固體廢物，公司已經(jīng)對污染情況進(jìn)行評(píng)估和綜合治理論證，并已形成綜合治理方案。上述污染經(jīng)處理或治理后，能達(dá)到國家規(guī)定排放標(biāo)準(zhǔn)的要求，基本無不良環(huán)境影響，符合國家環(huán)保要求。

2021 年 3 月 19 日，成都高新區(qū)生態(tài)環(huán)境和城市管理局對本項(xiàng)目出具成高環(huán)字〔2021〕8 號(hào)《關(guān)于對深圳市路維光電股份有限公司路維光電研發(fā)中心建設(shè)項(xiàng)目<環(huán)境影響報(bào)告表>的批復(fù)》，同意本項(xiàng)目建設(shè)。

8、項(xiàng)目用地情況

項(xiàng)目建設(shè)地點(diǎn)為成都市高新西區(qū)康強(qiáng)三路 1666 號(hào)。本次募投項(xiàng)目通過公司租賃成都路維的廠房實(shí)施，成都路維已取得川（2019）成都市不動(dòng)產(chǎn)權(quán)第0278193 號(hào)《不動(dòng)產(chǎn)權(quán)證書》，土地用途為工業(yè)用地。