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產(chǎn)業(yè)新聞產(chǎn)業(yè)資訊產(chǎn)業(yè)投資產(chǎn)業(yè)數(shù)據(jù)產(chǎn)業(yè)科技產(chǎn)業(yè)政策
1)泛半導(dǎo)體專用設(shè)備在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中至關(guān)重要
泛半導(dǎo)體專用設(shè)備在泛半導(dǎo)體行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈中占據(jù)重要的地位。泛半導(dǎo)體專用設(shè)備的技術(shù)復(fù)雜,客戶對(duì)設(shè)備的技術(shù)參數(shù)、運(yùn)行的穩(wěn)定性有苛刻的要求,以保障生產(chǎn)效率、質(zhì)量和良率。按照摩爾定律,當(dāng)價(jià)格不變時(shí),集成電路上可容納的元器件的數(shù)目,約每隔 18-24 個(gè)月便會(huì)增加一倍,性能也將提升一倍。
相應(yīng)的,半導(dǎo)體行業(yè)的設(shè)備洗凈服務(wù)提供商也必須每隔 18-24 個(gè)月推出更先進(jìn)的洗凈工藝;泛半導(dǎo)體制造工藝的技術(shù)進(jìn)步,反過(guò)來(lái)也會(huì)推動(dòng)泛半導(dǎo)體專用設(shè)備的技術(shù)革新,從而帶動(dòng)上游設(shè)備清洗服務(wù)提供商的洗凈技術(shù)工藝不斷提升。同時(shí),集成電路行業(yè)的技術(shù)更新迭代也帶來(lái)對(duì)于設(shè)備投資的持續(xù)性需求,從而帶動(dòng)泛半導(dǎo)體設(shè)備洗凈服務(wù)行業(yè)的持續(xù)快速發(fā)展。
2)泛半導(dǎo)體設(shè)備洗凈服務(wù)技術(shù)壁壘高,通過(guò)客戶驗(yàn)證難度較大
泛半導(dǎo)體產(chǎn)品制造過(guò)程中,需要用到蒸鍍、薄膜、蝕刻和光刻等工藝過(guò)程。這些工藝使機(jī)臺(tái)設(shè)備會(huì)沉積覆著物或被刻蝕,有效的污染控制是保證和提高泛半導(dǎo)體行業(yè)產(chǎn)品良率的必要條件,為確保生產(chǎn)功效,階段性對(duì)泛半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備進(jìn)行洗凈,是泛半導(dǎo)體產(chǎn)品制造過(guò)程中必不可少的需求。
泛半導(dǎo)體設(shè)備洗凈領(lǐng)域技術(shù)涉及物理、半導(dǎo)體物理、物理化學(xué)、電化學(xué)等多種基礎(chǔ)科學(xué)和化工、機(jī)械、材料、表面處理等多種工程學(xué)科,屬于多學(xué)科交叉行業(yè)。泛半導(dǎo)體專用設(shè)備行業(yè)的國(guó)際巨頭企業(yè)的市場(chǎng)占有率很高,特別是在光刻機(jī)、檢測(cè)設(shè)備、離子注入設(shè)備等方面處于壟斷地位,且其在大部分技術(shù)領(lǐng)域已采取了知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)措施,因此早期國(guó)內(nèi)泛半導(dǎo)體設(shè)備洗凈服務(wù)行業(yè)集中在中低端設(shè)備,洗凈附加值相對(duì)較低。
早期高端泛半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的技術(shù)壁壘非常高,洗凈服務(wù)均由設(shè)備原廠提供,由于設(shè)備廠商在國(guó)內(nèi)無(wú)設(shè)備洗凈服務(wù)能力,所有洗凈服務(wù)均需履行進(jìn)出口手續(xù),洗凈服務(wù)費(fèi)用高、且響應(yīng)速度慢,嚴(yán)重影響國(guó)內(nèi)泛半導(dǎo)體生產(chǎn)廠商的穩(wěn)定生產(chǎn)。
泛半導(dǎo)體行業(yè)客戶對(duì)半導(dǎo)體專用設(shè)備的質(zhì)量、技術(shù)參數(shù)、穩(wěn)定性等有嚴(yán)苛的要求,為保證穩(wěn)定生產(chǎn),投產(chǎn)初期一般主要選擇設(shè)備原廠提供洗凈服務(wù),對(duì)新的設(shè)備洗凈供應(yīng)商的選擇也較為慎重。一般選取行業(yè)內(nèi)具有一定市場(chǎng)口碑和市占率的供應(yīng)商,并對(duì)其設(shè)備洗凈服務(wù)開(kāi)展周期較長(zhǎng)的驗(yàn)證流程。通常,泛半導(dǎo)體行業(yè)客戶要求設(shè)備洗凈供應(yīng)商先提供設(shè)備試洗服務(wù)測(cè)試,待通過(guò)內(nèi)部驗(yàn)證后納入合格供應(yīng)商名單。因此,泛半導(dǎo)體設(shè)備洗凈服務(wù)企業(yè)在客戶驗(yàn)證、開(kāi)拓市場(chǎng)方面周期較長(zhǎng)、難度較大。
中國(guó)大陸少數(shù)企業(yè)經(jīng)過(guò)了十年以上的技術(shù)研發(fā)和工藝積累,在泛半導(dǎo)體設(shè)備洗凈領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了技術(shù)突破和創(chuàng)新,已基本能夠滿足國(guó)內(nèi)泛半導(dǎo)體生產(chǎn)企業(yè)的設(shè)備洗凈需求,設(shè)備洗凈服務(wù)已基本實(shí)現(xiàn)國(guó)內(nèi)替代。
3)技術(shù)更新較快,與下游應(yīng)用行業(yè)協(xié)同發(fā)展
根據(jù)摩爾定律,芯片工藝節(jié)點(diǎn)不斷縮小,由 12μm-0.35μm(1965 年-1995年)到 65nm-22nm(2005 年-2015 年),且還在向更先進(jìn)的方向發(fā)展,如14nm-5nm。隨著芯片工藝的不斷進(jìn)步,相應(yīng)生產(chǎn)技術(shù)與制造工序愈為復(fù)雜,設(shè)備清洗工序的需求增加,而對(duì)配套洗凈服務(wù)企業(yè)的洗凈技術(shù)和表面處理工藝要求也更加嚴(yán)格。精密洗凈服務(wù)企業(yè)需要不斷學(xué)習(xí)新技術(shù),研發(fā)新工藝,以滿足半導(dǎo)體客戶不斷提升的標(biāo)準(zhǔn)與要求,并配合客戶尋找提升良率的方法。
顯示面板產(chǎn)業(yè)方面,隨著技術(shù)的革新和產(chǎn)品的不斷迭代,對(duì)精密洗凈服務(wù)企業(yè)的技術(shù)和工藝要求也日趨提升。隨著顯示的應(yīng)用領(lǐng)域不斷擴(kuò)大,對(duì)顯示的響應(yīng)速度、液晶屏幕厚度、顯示視角等技術(shù)提出了更高的要求;未來(lái)面板行業(yè)AMOLED 滲透率有望不斷提升,而 AMOLED 半導(dǎo)體顯示面板產(chǎn)品生產(chǎn)和組裝的精度要求極高(達(dá)到微米級(jí)),產(chǎn)品品質(zhì)要求日益嚴(yán)格。精密洗凈服務(wù)企業(yè)需要密切跟蹤行業(yè)發(fā)展動(dòng)向以及客戶需求變化情況,只有不斷精進(jìn)技術(shù)和改進(jìn)工藝,才能提供配套優(yōu)質(zhì)的服務(wù)。