1、項目基本情況
本項目擬投資 66,000.00 萬元，進行 ArF 光刻膠產品開發(fā)和產業(yè)化工作。項目目標到 2021 年底，將在我國：1）首次建立 ArF 光刻膠產品大規(guī)模生產線，形成年產 25 噸 ArF（干式和浸沒式）光刻膠產品的生產能力，產品性能滿足90nm-14nm 集成電路制造的要求。產品通過 IC 芯片制造企業(yè)的使用認證，實現批量銷售；2）建立國內第一個專業(yè)用于 ArF 光刻膠產品開發(fā)的檢測評估平臺。平臺配備 ArF 光刻機、涂膠顯影一體機、特征尺寸掃描電鏡、缺陷檢測和分析等檢測設備，滿足先進光刻膠產品和技術開發(fā)的需求；3）建立一支具有國際水平的先進光刻膠產品開發(fā)和產業(yè)化隊伍。
本項目的實施單位為子公司寧波南大光電材料有限公司，建設內容包括“先進光刻膠及高純配套材料的開發(fā)和產業(yè)化”和“ArF 光刻膠產品的開發(fā)和產業(yè)化”。
（1）先進光刻膠及高純配套材料的開發(fā)和產業(yè)化
建設內容為建立光刻膠配套高純顯影液的規(guī)?；a線，包括合成、純化、分析、灌裝等工藝的配套生產裝置及分析檢測設備；另外還將建設國內首個先進光刻膠分析測試中心，包含浸沒式光刻機、涂膠顯影一體機和 CD-SEM 等關鍵量測設備。
項目完全達產后，將建成光刻膠研發(fā)中心、先進光刻膠的分析測試中心，以及年產 350 噸的高純顯影液的生產線。
（2）ArF 光刻膠產品的開發(fā)和產業(yè)化
建設內容為建立包含高等級超凈間在內的 ArF 光刻膠生產線，具備 ArF 光刻膠產品的生產能力；建立 ArF 光刻膠配套關鍵組分材料的生產能力，完善光刻膠原材料的供應。
項目完全達產后，將建成年產 5 噸 ArF 干式光刻膠的生產線、年產 20 噸ArF 浸沒式光刻膠的生產線以及年產 45 噸的光刻膠配套高純試劑的生產線。
2、項目實施的必要性
（1）高端光刻膠領域亟待打破外資壟斷局面
光刻膠是由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液體，是光刻工藝中的關鍵材料，主要應用于集成電路和半導體分立器件的細微圖形加工。光刻膠及配套試劑在晶圓制造材料中合計占比約 12%，為第 4 大晶圓制造材料，且其技術開發(fā)難度大，被譽為半導體材料“皇冠上的明珠”。
目前，半導體工業(yè)正在應用的先進光刻技術是 ArF 浸沒式光刻，配合雙重圖形以及多重圖形等技術，分辨率可以達到 7nm 節(jié)點。從現在到未來的很長一段時間內，ArF 光刻膠及相關配套材料和試劑在集成電路芯片制造中都占據著主導地位。
長期以來，國內高端光刻膠市場長期為國外巨頭所壟斷。全球行業(yè)前四大光刻膠廠商合成橡膠、信越化學、東京應化以及住友化學均為日系廠商，全品類半導體光刻膠中日本廠商占據了 70%的市場份額，分品類來看，日本廠商在ArF、KrF、g 線/i 線膠市場中市占率分別為 93%、80%、61%，其在高端市場中展現出極強的控制力。由于國內光刻膠起步晚，目前技術水平相對落后，與國外行業(yè)巨頭仍存在較大差距，生產產能主要集中在 PCB 光刻膠、LCD 光刻膠等中低端產品，但高端光刻膠中 ArF 浸沒式光刻膠是集成電路 28nm、14nm乃至 10nm 以下制程的關鍵，而我國高端光刻膠幾乎處于空白狀態(tài)。
高端光刻膠長期為國外企業(yè)壟斷的現狀，對我國芯片制造具有“卡脖子”風險。從歷史經驗看，2019 年下半年，日本通過對韓國實施貿易禁運包括光刻膠在內的電子材料，嚴重打擊了韓國半導體產業(yè)。由于高檔光刻膠的保質期很短，通常只有 6 個月左右甚至更短，一旦遇到貿易沖突或自然災害，我國集成電路產業(yè)勢必面臨芯片企業(yè)短期內全面停產的嚴重局面。因此，盡快實現全面國產化和產業(yè)化高檔光刻膠材料具有十分重要的戰(zhàn)略意義和經濟價值。
本次募投項目實施完畢后，南大光電將建成 ArF 光刻膠（干式和浸沒式）及相關配套試劑生產線，實現國產先進光刻膠及配套材料的進口替代，有助于解決高端光刻材料“卡脖子”的問題。
（2）推進公司光刻膠業(yè)務布局，助力國家提升關鍵領域自主可控水平
公司作為國產高端光刻膠產品的領軍企業(yè)，已率先制備出國內首款 ArF 光刻膠產品，但目前尚未量產。為了進行光刻膠產品的量產，實現公司在光刻膠業(yè)務的布局，推進公司產品結構的升級，提升我國高端光刻膠的國產化水平，公司亟需將 ArF 光刻膠研究成果產業(yè)化，加大對光刻膠的研發(fā)投入、建設 ArF光刻膠產品生產線。同時，通過 ArF 光刻膠業(yè)務的布局，公司將以 ArF 光刻膠為基點，布局國產先進光刻膠產品，介入先進光刻膠材料的產業(yè)鏈，建立光刻膠配套材料的國產化供體系，實現光刻膠生產的完全國產化，充分滿足核心客戶的需求，從而抓住半導體材料進口替代的歷史性機遇，為公司打造新的利潤增長點。進一步，公司借助光刻膠業(yè)務布局，積極開拓國際市場，使國產先進光刻膠進入世界市場，占據一定市場份額，成為國際知名的電子材料企業(yè)。
本次通過募集資金對于光刻膠業(yè)務的投資建設，公司將達到年產 25 噸193nm（ArF 干式和浸沒式）光刻膠產品的生產規(guī)模，產品性能滿足 90nm-14nm集成電路制造的要求，實現國內高端光刻膠零的突破，提升我國高端光刻膠這一領域的自主可控水平。
3、項目實施的可行性
（1）南大光電已成功研制國內首款 ArF 光刻膠產品，具有技術先進性
作為具有“卡脖子”風險的芯片制造關鍵原材料，我國高端光刻膠一直為國外所壟斷，國內研制成功的公司寥寥無幾。
2017 年起，南大光電先后承擔國家“02 專項”高分辨率光刻膠與先進封裝光刻膠產品關鍵技術研發(fā)、ArF 光刻膠產品開發(fā)與產業(yè)化項目，歷經 3 年艱苦奮斗，公司率先制備出國內首款 ArF 光刻膠產品，滿足產業(yè)化的技術條件，具備領先性。
截至 2020 年 9 月 30 日，公司擁有研發(fā)人員 111 人，占公司總人數的比例超過 16%，擁有豐富的研發(fā)人員儲備和良好的研發(fā)人員培養(yǎng)機制，已經建成一支具有國際水平的高素質研發(fā)與管理團隊，并不斷加強優(yōu)質人才儲備，保障公司的持續(xù)研發(fā)能力。領先的技術研發(fā)成果和持續(xù)穩(wěn)定的研發(fā)能力為本次募投項目提供了可靠的驅動力。
（2）國家政策積極支持光刻膠業(yè)務發(fā)展
光刻膠作為具有“卡脖子”風險的半導體材料，得到了國家產業(yè)政策的大力支持。2014 年，國務院出臺了《國家集成電路產業(yè)發(fā)展推進綱要》，著力推動我國集成電路產業(yè)的發(fā)展，在關鍵材料領域形成突破，開發(fā)光刻膠、大尺寸硅片等關鍵材料，加強集成電路制造企業(yè)和裝備、材料企業(yè)的協作，加快產業(yè)化進程，增強產業(yè)配套能力。
2016 年 11 月，國務院《“十三五”國家戰(zhàn)略性新興產業(yè)發(fā)展規(guī)劃》指出加快先進制造工藝、存儲器、特色工藝等生產線建設，提升安全可靠 CPU、數模/模數轉換芯片、數字信號處理芯片等關鍵產品設計開發(fā)能力和應用水平，推動封裝測試、關鍵裝備和材料等產業(yè)快速發(fā)展。
2017 年 4 月，科技部《“十三五”先進制造技術領域科技創(chuàng)新專項規(guī)劃》列示重點任務“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”之“關鍵材料”：面向45-28-14 納米集成電路工藝，重點研發(fā) 300 毫米硅片、深紫外光刻膠、拋光材料、超高純電子氣體、濺射靶材等關鍵材料產品，通過大生產線應用考核認證并實現規(guī)?；N售；研發(fā)相關超高純原材料產品，構建材料應用工藝開發(fā)平臺，支撐關鍵材料產業(yè)技術創(chuàng)新生態(tài)體系建設與發(fā)展。
2020 年 8 月，國務院印發(fā)《新時期促進集成電路產業(yè)和軟件產業(yè)高質量發(fā)展的若干政策》，給予集成電路設計、裝備、材料、封裝、測試企業(yè)和軟件企業(yè)更有力度的稅收優(yōu)惠政策，進一步優(yōu)化集成電路產業(yè)的發(fā)展環(huán)境。
國家積極的產業(yè)政策從稅收、資金等各個方面推動光刻膠行業(yè)的發(fā)展，為此次募投項目的實施奠定了良好的基礎。
（3）本土光刻膠產品迎來進口替代機遇
在國家產業(yè)政策推動以及 5G、智能網聯汽車、人工智能、高清視頻等相關產業(yè)帶動下，如今國際半導體產能正在逐漸向國內轉移，受益于產業(yè)大趨勢，國產光刻膠及配套材料的需求將日益提升。但目前國內光刻膠市場主要被日系企業(yè)占據，高端光刻膠領域近乎空白。
ArF 光刻膠作為高端光刻膠，隨著國家自主可控戰(zhàn)略的不斷深化，愈發(fā)具有進口替代的意義。隨著包括南大光電在內的一批龍頭科技企業(yè)在技術上的不斷突破，國產 ArF 光刻膠生產逐步具備技術可行性，未來有望替代日本企業(yè)在國內的市場份額，并享受光刻膠市場規(guī)模的增加帶來的紅利。國產光刻膠發(fā)展面臨歷史機遇。
4、項目投資概況
本項目的預計投資總額為 66,000.00 萬元（包含“先進光刻膠及高純配套材料的開發(fā)和產業(yè)化”投資額 41,000.00 萬元以及“ArF 光刻膠產品的開發(fā)和產業(yè)化”投資額 25,000.00 萬元），擬使用本次向特定對象發(fā)行股票募集資金投入15,000.00 萬元。具體投資明細如下：單位：萬元
5、項目實施主體及實施地點
（1）先進光刻膠及高純配套材料的開發(fā)和產業(yè)化
項目實施主體為寧波南大光電材料有限公司，實施地點位于寧波市北侖區(qū)云臺山路北（芯港小鎮(zhèn)）。
（2）ArF 光刻膠產品的開發(fā)和產業(yè)化
項目實施主體為寧波南大光電材料有限公司，實施地點位于寧波市北侖區(qū)柴橋臨港產業(yè)園橫中路北。
6、項目實施進度
項目計劃建設期為 3 年，即 2019 年至 2021 年。
7、項目效益情況
本項目靜態(tài)投資回收期為 6.67 年，所得稅稅后項目財務內部收益率 16.6%，項目具有較好的經濟效益。
8、項目備案、環(huán)評事項及進展情況
（1）先進光刻膠及高純配套材料的開發(fā)和產業(yè)化
2018 年 11 月，本項目取得寧波市北侖區(qū)發(fā)改局出具的《浙江省企業(yè)投資項目備案（賦碼）信息表》（項目代碼：2018-330206-39-03-068573-000）。2019 年 7 月，本項目取得寧波市生態(tài)環(huán)境局北侖分局出具的《關于寧波南大光電材料有限公司先進光刻膠及高純配套材料的開發(fā)與產業(yè)化項目環(huán)境影響報告表的批復》（侖環(huán)建[2019]155 號）。
（2）ArF 光刻膠產品的開發(fā)和產業(yè)化
2019 年 9 月，本項目取得寧波市北侖區(qū)發(fā)改局出具的《浙江省企業(yè)投資項目備案（賦碼）信息表》（項目代碼：2019-330206-39-03-032730-000）。2019 年 9 月，本項目取得寧波市生態(tài)環(huán)境局北侖分局出具的《關于寧波南大光電材料有限公司 ArF 光刻膠產品的開發(fā)和產業(yè)化環(huán)境影響報告書的批復》（侖環(huán)建[2019]245 號）。
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