半導體芯片的制作過程可分為硅片制造、晶圓制造和芯片封裝三大環(huán)節(jié),高純?yōu)R射靶材則主要用于“晶圓制造”和“芯片封裝”兩個環(huán)節(jié),在晶圓制造環(huán)節(jié)被用作晶圓導電層、阻擋層以及金屬柵極的濺鍍,在芯片封裝環(huán)節(jié)被用作貼片焊線的鍍膜。半導體領域靶材具有多品種、高門檻、定制化研發(fā)的特點,其對于濺射靶材的技術要求最高,對金屬材料純度、內部微觀結構等均有嚴苛的標準。近年來半導體芯片的集成度越來越高,半導體芯片尺寸不斷縮小,對高純?yōu)R射靶材提出了新的技術挑戰(zhàn)。
隨著物聯網、云計算、大數據、人工智能、駕駛輔助、機器人和無人機等領域的應用市場持續(xù)成長,全球及中國集成電路產業(yè)正處于高速發(fā)展階段。根據WSTS的數據,2015年全球集成電路市場規(guī)模為2,745億美元,2020年達到3,612億美元,年均復合增長率為5.65%。根據中國半導體行業(yè)協會的數據,2015年我國集成電路產業(yè)規(guī)模為3,610億元,2020年達到8,848億元,占全球市場的份額從2015年的21.11%提升至35.50%。
2015-2020年我國集成電路產業(yè)實現了19.64%的年均復合增長率,遠超全球市場增速。在此背景下,全球晶圓制造產能呈現出逐漸向中國大陸轉移的趨勢。全球量產晶圓尺寸包括6英寸、8英寸、12英寸等,其中12英寸應用最為廣泛。根據SEMI的預測,中國大陸12英寸Foundry廠產能全球占比將由2015年的8%增長至2024年的20%,產量達到150萬片/月。
根據IC Insights的數據,2018年全球晶圓產能為1,945萬片/月,預計2022年將達到2,391萬片/月,2018-2022年的年均復合增長率為5.30%;2018年中國大陸晶圓產能為243萬片/月(等效于8英寸晶圓),2022年將達到410萬片/月,中國大陸晶圓產能占全球產能的比例從2018年的12.49%上升至2022年的17.15%。2018-2022年中國大陸晶圓產能的年均復合增長率達13.97%,遠高于全球增速。
隨著全球半導體行業(yè)的快速發(fā)展和晶圓產能的不斷擴大,半導體材料的市場規(guī)模穩(wěn)定增長。根據SEMI的數據,2016年全球半導體材料銷售額為428億美元,2021年達到643億美元,2016-2021年的年均復合增長率為8.48%。2016-2021年全球半導體材料市場規(guī)模如下:
資料來源:SEMI
作為制造集成電路的核心材料之一,半導體靶材在晶圓制造與封測環(huán)節(jié)的成本占比相對固定,市場規(guī)模預計將同步增長。根據SEMI統(tǒng)計,在晶圓制造材料中,濺射靶材約占芯片制造材料市場的2.6%;在封裝測試材料中,濺射靶材約占封裝測試材料市場的2.7%。據此測算,2021年全球半導體用濺射靶材市場規(guī)模為16.95億美元。2016-2021年全球半導體用濺射靶材市場規(guī)模測算結果如下:單位:億美元
受益于國內集成電路產業(yè)加速發(fā)展趨勢、半導體領域國內濺射靶材供應商技術的突破和成熟、國產化的成本優(yōu)勢等,未來半導體濺射靶材領域存在較大的國產替代空間,有望逐步降低對進口靶材的依賴。
受到發(fā)展歷史和技術限制的影響,美國、日本的半導體靶材生產廠商仍居于全球市場的主導地位,中國大陸半導體靶材廠商起步較晚但成長較快。根據SEMI統(tǒng)計數據測算,中國大陸半導體靶材市場規(guī)模在全球市場中占比已從2014年的約10%提升至2019年的約19%。
受益于國內集成電路產業(yè)加速發(fā)展趨勢、半導體領域國內濺射靶材供應商技術的突破和成熟、國產化的成本優(yōu)勢等,未來半導體濺射靶材領域存在較大的國產替代空間,有望逐步降低對進口靶材的依賴。